超纯水设备出水符合芯片生产用水需求
是指载有集成电路的半导体元件。芯片制造又称晶圆制造,是在晶圆表面通过物理和化学工艺步骤形成器件,并用金属线将器件连接起来形成集成电路的过程。芯片的需求主要来自科技的蓬勃发展,电子消费产品芯片的需求不低于汽车行业的需求。芯片的生产过程冗长,对所有的设备技术要求很严格,短时间解决芯片短缺问题仍然是一个难题,而如何提高芯片的成品率问题就显得尤为重要。
超纯水设备出水符合芯片生产用水需求超纯水设备出水符合芯片生产用水需求 在芯片生产中,几乎每一道工序都需要超纯水清洗,工件与水直接接触。一旦水质不达标或水中含有杂质,就会降低设备性能,降低产量。确保超纯水的质量是我国自主研发芯片的重要基础。传统的超纯水生产工艺采用阴离子树脂交换设备。这种工艺的缺点是树脂在使用一段时间后会频繁地再生,增加成本。随着膜分离技术的不断成熟,莱特莱德采用反渗透工艺,或反渗透后再采用EDI和抛光混床工艺生产超纯水,出水电导率可达18.2MΩ,满足芯片行业用水需求。随着芯片制造工艺中对设计的需求更小,对纯水水质的要求也越来越严格。莱特莱德芯片超纯水设备能在一定程度上去除水中的二氧化硅、颗粒、细菌、有机物和微生物,从而达到行业用水要求。
超纯水设备日常保养中会遇到的问题问题一:超纯水设备的管道怎样清洗。
答:开始时使用超纯水冲洗管内杂质,第二遍、第三遍使用清洗消毒,第四遍可应用超纯水将管内残液冲洗干净。
问题二:超纯水设备如何消毒。
答:设备可在清洗水箱中加入1200LRO产水,缓缓加入约10kg25%的H2O2溶液,配制0.2%的H2O2溶液,用清洗泵自循环10分钟,使溶液混合均匀。
以上信息由专业从事电子超纯水设备安装的瑞尔环保于2023/3/29 14:06:59发布
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